| प्रकाशीय आवरण प्रयोगशाला |
Optical coating facility
प्रकाशिकी मे वांछित ऑप्टिकल प्रदर्शन को प्राप्त करने के लिए वैकल्पिक उच्च एवं निम्न अपवर्तक सूचकांक वाली परतों की एकल परत या बहुपरत कोटिंग की आवश्यकता होती है। इसके लिए वर्तमान में पांच निक्षेपण सुविधाओं का उपयोग किया जा रहा है:
छायाचित्र: आयन-असिस्टेड इलेक्ट्रॉन बीम निक्षेपण यूनिट |
आयन-असिस्टेड इलेक्ट्रॉन बीम निक्षेपण एक पूर्णतः स्वचालित प्रणाली है। इसमें दो स्वतंत्र ई-बीम गन (प्रत्येक 10 किलोवाट, 4x15 सीसी क्रूसिबल, स्वीप इत्यादि), एक व्यापक बीम आयन स्रोत (40-210 eV, 0-7A)
O2और Ar गैसें, इन-सीटू ऑप्टिकल और फिजिकल थिकनेस मानीटर , प्लेनेटरी सब्सट्रेट रोटेशन आदि के साथ (100 मिमी ø के 4, 75 मिमी ø के 4, 50 मिमी ø के 4, 25 मिमी ø के 8 सब्सट्रेट के अलावा अन्य आकार व मापो वाले सब्सट्रेटस पर निक्षेपण किया जाता है। |
छायाचित्र: द्वी-आयन बीम स्पटरिंग निक्षेपण यूनिट |
द्वी-आयन बीम स्पटरिंग निक्षेपण यूनिट दो आयन स्रोतों से सुसज्जित है; एक टारगेट से स्पटरिंग के लिए और दूसरा आयन क्लीनिंग, ऑक्सीकरण, घनत्विकरण के लिए। मल्टीलेयर ऑक्साइड कोटिंग्स को विकसित करने के लिए चार ऑक्साइड टारगेटो का उपयोग किया जाता है। इसमे चार 150 मिमी व्यासवाले सबस्ट्रेट्स समायोजित किये जा सकते है जिन्हे निक्षेपण के दौरान ग्रहीय विन्यास में घुमाया जाता है तथा इन-सीटू ऑप्टिकल और भौतिक मोटाई की निगरानी भी की जाती है। उच्च लेजर जनित क्षति सीमा वाली बहुपरत कोटिंग निक्षेपण के लिए इसका उपयोग किया जाता है। |
छायाचित्र: स्पटरिंग निक्षेपण यूनिट |
स्पटरिंग निक्षेपण यूनिट घर में ही विकसित की गई है। इसमें कन्फोकल ज्यामिति में दो टिल्टेबल स्पटर मैग्नेट्रॉन कैथोड, इन-सीटू भौतिक मोटाई की निगरानी, सब्सट्रेट हीटिंग और कूलिंग, डी.सी, आर.एफ, पल्सड डी.सी. स्पटरिंग, आयन क्लीनिंग का उपयोग करके सरल सब्सट्रेट रोटेशन के साथ 150 मिमी व्यास से कम आकार वाले सब्सट्रेटस पर विभीन्न धातु कि बहुपरत कोटिंग निक्षेपण आदि शामिल हैं। |
छायाचित्र:प्रथु-परत धातु निक्षेपण के लिए टेबल-टॉप स्पटरिंग |
प्रथु-परत धातु निक्षेपण के लिए टेबल-टॉप स्पटरिंग यूनिट
- 2 इंच की मैग्नेट्रोन गन
- 2-इंच व्यास सब्सट्रेट आकार
- 500W डीसी बिजली की आपूर्ति
- कमरे के तापमान पर गाढ़े सोने, टाइटेनियम, मोलिब्डेनम, तांबे आदि फिल्मों का जमाव
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तनु-परतो के लिए सोल-जेल निक्षेपण यूनिट |
- रासायनिक मार्ग से सोल तैयार करना
- चुंबकीय स्टिरर के साथ तैयारी
- 6000 आर.पी.एम. तक स्पिन कोटिंग।
- गर्म प्लेट पर सुखाना (500 डिग्री सेल्सियस तक)
- सब्सट्रेट का आकार 6 इंच व्यास तक
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