| त्वरक नियन्त्रण प्रणाली प्रभाग |
| प्रोटॉन लिनाक उप-प्रणालियों के लिए नियंत्रण प्रणाली |
| |
एच-आयन स्रोत नियंत्रण प्रणाली
आरआरकेट में एक प्रोटोटाइप फिलामेंट आधारित मल्टी-क्यूस्प एच-आयन स्रोत विकसित किया गया है और सी.डब्ल्यू. में सफलतापूर्वक संचालित किया गया है। 52 µ ए के बीम करंट के साथ 30 केवी पर एच-आयन बीम निकालने के लिए मोड।
एच-आयन स्रोत नियंत्रण प्रणाली गैस प्रवाह, बिजली आपूर्ति वर्तमान और वोल्टेज, समय की देरी और चौड़ाई इत्यादि जैसे विभिन्न संकेतों को नियंत्रित और निगरानी करती है। इसके लिए विभिन्न प्रकार के उपकरणों को नियंत्रण प्रणाली में इंटरफेस किया गया है।
चित्र: क्षेत्र में प्रणाली
चित्र: समग्र प्रणाली की वास्तुकला
नियंत्रण प्रणाली की वास्तुकला:
एच-आयन स्रोत के लिए नियंत्रण प्रणाली में निम्नलिखित दो टोपोलॉजी हैं:
1.उपकरणों के लिए सीरियल इंटरफ़ेस
पीसी पर चलने वाला सॉफ्टवेयर सीधे डिवाइस के साथ आरएस-232/आरएस-485 सीरियल इंटरफेस पर संचार करता है। वीएमई सिस्टम, मास फ्लो कंट्रोलर (एमएफसी), टीडीके पावर सप्लाई, सिंक्रोनाइजेशन पल्स जेनरेटर (बीएनसी) आदि जैसे विभिन्न उपकरण हैं।
|
 |
| चित्र: उपकरणों के लिए सीरियल इंटरफ़ेस |
| |
2. वीएमई आधारित 2-परत प्रणाली
- लेयर -1 में EPICS का उपयोग करके निर्मित SCADA सॉफ़्टवेयर वाला PC है।
- लेयर -2 में दो VME स्टेशन हैं जिनमें विभिन्न उपकरणों के साथ एनालॉग और डिजिटल इंटरफेस हैं।
VME स्टेशनों में से एक फ्लोटिंग साइड पर है (ग्राउंड को -50KV तक उठाया गया है) और दूसरा ग्राउंड साइड पर है।लेयर-1 पीसी और लेयर-2 वीएमई स्टेशन आरएस-232 पर संचार करते हैं।
|
 |
| चित्र: वीएमई आधारित 2-परत प्रणाली |
| |
इंटरफेसिंग और ऑपरेटर पैनल के लिए एपिक्स सॉफ्टवेयर
एच-आयन कंट्रोल सिस्टम सॉफ्टवेयर एपिक्स आधारित है। प्रत्येक डिवाइस इंटरफ़ेस में नियंत्रण और स्थिति मान प्रदर्शित करने के लिए एक IOC और एक OPI होता है। OPI को EPICS-QT का उपयोग करके डिज़ाइन किया गया है। IOC और OPI एक दूसरे से स्वतंत्र रूप से चल सकते हैं।
|
 |
| चित्र: बीएनसी विलंब जेनरेटर |
| |
 |
| चित्र: मास फ्लो कंट्रोलर |
| |
 |
| चित्र: जीयूआई |
| |
|
